KRi 考夫曼离子源应用
1978 年 Dr. Kaufman 考夫曼博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. KRi 离子源在真空环境中实现薄膜沉积, 干式纳米刻蚀和修改材料表面性能.
在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, 具有原子级控制的材料和表面特征.
美国 KRi 离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.
美国 KRi 离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺.
共 57 篇
阅读数 : 1550
-
KRi 考夫曼离子源 KDC 100 应用于 IBE 离子束刻蚀机
-
上海伯东 KRI 射频离子源应用于12英寸和8英寸金属蚀刻机中
-
上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 离子枪 KRi EH5000F 在大尺寸光学蒸镀机应用
-
美国 KRi RFICP 220 三层栅网射频离子源适用于 8寸金属刻蚀机
-
美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用
-
考夫曼离子源,离子源,KRi离子源,表面预清洁
-
KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
-
KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用
-
KRi 离子源常见工艺应用
-
上海伯东美国 KRi 射频离子源应用于国产离子束溅射镀膜机 IBSD
-
上海伯东 KRI 离子源应用于有机材料热蒸镀设备 OLED, OPV
-
上海伯东 KRI 离子源应用于超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter
-
上海伯东 KRI 离子源应用于磁控共溅镀设备 Co-sputter
-
上海伯东 KRI 离子源应用于电子束蒸镀设备 E-beam Evaporation System
-
KRI 射频离子源应用于多层膜磁控溅镀设备 Multilayer sputter
-
KRI 离子源应用于金属热蒸镀设备
-
KRi 射频离子源应用于车载摄像头镜片镀膜工艺
-
KRi 射频离子源 RFICP 380 树脂镜片高性能 AR 工艺
-
KRi 射频离子源应用于红外截止滤光片 IRCF 工艺
-
KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR工艺
