上海伯东客户某生产光学镜片公司采购美国 KRI 考夫曼公司大尺寸霍尔离子源 eH 2000 加装于电子束镀膜机用于望远镜用金属零部件 IBAD 辅助镀膜!

上海伯东电子束镀膜机加装离子源典型案例: 根据客户 Φ1.2m 镀膜腔体尺寸, 基材尺寸和工艺条件, 推荐选用霍尔离子源 eh2000 HC, 配置中空阴极, 中和器, 自动控制器
1. 设备: Φ1.2m 电子束镀膜机.
2. 基材:望远镜用零部件, 镀铝 Al, 最外层镀一层二氧化硅 SiO2, 做为保护膜
3. 加装霍尔离子源: eh2000HC, 通氧气
3. 离子源条件: Vb:120V ( 离子束阳极电压 ), Ib:14A ( 离子束阳极电流 ), O2 gas:45sccm( 氧气 ).
4. 离子源应用: 望远镜用零部件镀金属膜


腔体内中的霍尔离子源 eh2000HC                                   通氧气 O2               霍尔离子源 eh2000HC 自动控制器
 

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

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电子束镀膜机加装 KRi 霍尔离子源 EH 2000