2026-01-26 更新

阅读数 : 335

KRi 霍尔离子源 eH 1020 F 光学蒸镀镀膜机应用

上海伯东美国 KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用

常见蒸镀机台与对应 KRI 霍尔离子源型号:

蒸镀机台尺寸

KRI 离子源

~1100mm

eH1010

1100~1400mm

eH1010, eH1020

1400~1900mm

eH1020, eH3000


KRI 考夫曼霍尔离子源 controller 自动化控制及联机自动化设计,提供使用者在操作上更是便利。

KRI 考夫曼霍尔离子源 Gun body 模块化之设计、提供使用者在于基本保养中能够降低成本及便利性。

伯东公司客户 1400 mm 蒸镀镀膜机安装 KRI考夫曼霍尔离子源 EH1020 F,应用于塑料光学镀膜。


KRI 霍尔离子源

KRI 霍尔离子源 EH1020


KRI 考夫曼霍尔离子源 EH1020 主要参数:

Filament Controller

Discharge controller

Gas controller

17.2A/ 22V

150V/ 4.85A

Ar/ 32sccm

KRI 霍尔离子源


利用 KRI 考夫曼霍尔离子源辅助镀膜及无离子源辅助镀膜对镀膜质量之比较:

 

KRI EH1020 辅助镀膜

无 Ion Source 辅助镀膜

盐水煮沸脱膜测试

优

劣

破坏性百格脱膜测试

优

劣

光学折射设率

高

低

膜层致密性

优

劣

膜层光学吸收率

无

有

制程腔体加热温度

低

高

生产成本

低

高

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 


 



上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

若您需要进一步的了解 KRi 离子源 详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 叶小姐                                                 台湾伯东: 王小姐
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )              M: +886-939-653-958

现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267
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