KRI 霍尔离子源 Gridless

1978 年 Dr.Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson,Inc 公司,研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless。美国考夫曼离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利。广泛用于离子清洗、离子蚀刻、辅助镀膜领域。上海伯东是美国考夫曼离子源(离子枪)中国总代理。

霍尔离子源 Gridless 提供高电流低能量 end-Hall 系列产品,包含宽束霍尔离子源和电源控制器,整体设计,易于系统集成, 霍尔离子源典型应用:辅助镀膜 IABD,镀膜预清洁 ISSP,离子蚀刻等

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列

霍尔离子源 Gridless  eH 特性:
无栅极,高电流低能量宽束型离子源
发散光束 >45

KRI 霍尔离子源 eH 200

eH200 是霍尔离子源型eH 系列中尺寸最小,低成本设计离子源

KRI 霍尔离子源 eH 400

霍尔离子源型号

eH 400,eH400 LEHO

Discharge size @ source

~ 4 cm

KRI 霍尔离子源 eH 1000

霍尔离子源型号

eH1000,eH1000L,eH1000xO2,eH1000LEHO

Discharge size @ source

~ 5 cm

KRI 霍尔离子源 eH 2000

霍尔离子源型号

eH2000,eH2000L,eH2000xO2,eH2000LEHO

Discharge size @ source

~ 5 cm

KRI 霍尔离子源 eH 3000

美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 , KRI 霍尔离子源 eH 系列里面尺寸最大, 能量最大的离子源

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