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应用案例 APPLICATIONS
美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 MEMS 探针光栅刻蚀应用
高能量 22cm 栅极离子源, MEMS 探针光栅刻蚀, 材料为 Sio2 和金属, 刻蚀均匀性 ±5%
ph-instruments SRG 磁悬浮转子真空计可替代 MKS, INFICON 离子规
可以替代离子规 MKS 903 AP,MKS GP 390,MKS GP 355,Inficon HPG400,Inficon MPG400 等型号
SRG 磁悬浮转子真空计应用优势
耐腐蚀和沉积, 无灯丝设计, 替代传统的离子规(冷阴极离子规或热阴极离子规)
KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统
KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统
IBE 离子束刻蚀机原理和特性
IBE (Ion Beam Etching) 离子束刻蚀, 通常使用 Ar 气体作为蚀刻气体, 将与电子的冲击产生的离子在 200~ 1000ev 的范围内加速, 利用离子的物理动能
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