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应用案例 APPLICATIONS
美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 MEMS 探针光栅刻蚀应用
高能量 22cm 栅极离子源, MEMS 探针光栅刻蚀, 材料为 Sio2 和金属, 刻蚀均匀性 ±5%
IBE 离子束刻蚀机工作原理与性能特点
IBE (Ion Beam Etching) 离子束刻蚀, 通常使用 Ar 气体作为蚀刻气体, 将与电子的冲击产生的离子在 200~ 1000ev 的范围内加速, 利用离子的物理动能
KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统
KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统
ph-instruments SRG 磁悬浮转子真空计可替代 MKS, INFICON 离子规
可以替代离子规 MKS 903 AP,MKS GP 390,MKS GP 355,MKS GP 354, Inficon HPG400,Inficon MPG400 等型号
SRG 磁悬浮转子真空计应用优势
耐腐蚀和沉积, 无灯丝设计, 替代传统的离子规(冷阴极离子规或热阴极离子规)
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