KRi 直流磁控溅射电源

簡介

真正的电弧检测和抑制: <100 nsec 电弧检测
最小电弧能量:能量:<1mJ : 减少基材和目标的损坏, 减少粒子生成, 增加沉积时间
从 25 到 1500W 稳定的输出功率
电压, 电流和功率调节模式
可调运行定时器, 可调功率斜坡
配方存储多达 7个单独的目标
KWHr 计数器时间限制
紧凑设计: 仅需一个单元
0-1000V 和 0.4A 工作范围: 满额定功率可适用于大阻抗范围
大阻抗范围: 不需要在整个范围内更换变压器分接
可调电弧处理参数: 后电弧检测延迟时间; 重新启动前的电弧检测输出断开时间
弧度计数器: 目标条件和工艺环境的指示

洽詢了解

技术规格

上海伯东代理美国 KRi 直流磁控溅射电源适用于各品牌磁控溅射镀膜机, 低压直流电源 0-1000 V, 稳定的控制磁控溅射阴极. 真正的电弧检测和抑制. KRi 直流磁控溅射电源可以减少基材和目标的损坏, 增加沉积时间.

KRi 直流磁控溅射电源特点:
真正的电弧检测和抑制: <100 nsec 电弧检测
最小电弧能量:能量:<1mJ : 减少基材和目标的损坏, 减少粒子生成, 增加沉积时间
从 25 到 1500W 稳定的输出功率
电压, 电流和功率调节模式
可调运行定时器, 可调功率斜坡
配方存储多达 7个单独的目标
KWHr 计数器时间限制
紧凑设计: 仅需一个单元
0-1000V 和 0.4A 工作范围: 满额定功率可适用于大阻抗范围
大阻抗范围: 不需要在整个范围内更换变压器分接
可调电弧处理参数: 后电弧检测延迟时间; 重新启动前的电弧检测输出断开时间
弧度计数器: 目标条件和工艺环境的指示

KRi 直流磁控溅射电源参数:

产品	KRI 直流磁控溅射电源 1.5kW
型号	标准型
输入功率	50-60 Hz / singleФ/ 100-240 VAC
全功率阻抗范围	1:7 (94-667 ohms)
最大 V/I	1000V / 4A
点火 V	1000V
输出连接器	HN
认证	CE & NRTL
电弧抑制	是
电弧能量	< 1mJ
弧度计数器	是
尺寸: 高X宽X深	4.44 X 48.3 X 50 cm
重量	8.2 kg
远程控制	analog & RS 232

提供三种规格满足不同的溅射应用

规格	最大 V/I
KRI 直流磁控溅射电源 1.5kW	1000V, 4A
KRI 直流磁控溅射电源 1.0kW	1000V, 3A
KRI 直流磁控溅射电源 0.5kW	1000V ,2A

KRi 直流磁控溅射电源典型应用
金属磁控溅射, 反应膜层溅射

上海伯东美国 KRi 提供的离子源模块化电源控制器, 可以操作各种离子, 等离子体和电子源, 用于在等离子体处理中, 输出稳定和可重复功率的动态负载. 可以在恶劣的环境中正常运转, 易于系统集成.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.