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KRI 考夫曼离子源

1978 年 Dr.Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson,Inc 公司,研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless。美国考夫曼离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利。广泛用于离子清洗、离子蚀刻、辅助镀膜领域。上海伯东是美国考夫曼离子源(离子枪)中国总代理。

考夫曼离子源创始人 Dr.Harold R.Kaufman 简介

考夫曼离子源创始人 Dr.Harold R.Kaufman 简介 产品详细资料

Kaufman 考夫曼博士 1926 年在美国出生，1951 年加入美国 NASA 路易斯研究中心，1971 年考夫曼博士获得美国宇航局杰出服务奖。从 NASA 退休后，考夫曼博士在 1978 年成立了 Kaufman & Robinson,Inc 公司，开始研发生产适合工业使用的霍尔离子源和考夫曼离子源。

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列 产品详细资料

考夫曼离子源 Gridded KDC 特性：
栅极,低电流高能量宽束型离子源
离子束可选集中,平行,散设

KRI 考夫曼离子源离子枪简介

KRI 考夫曼离子源离子枪简介 产品详细资料

KRI 考夫曼离子源 广泛用于镀膜之前处理( ISSP)及助镀(IABD)且有助于提高成膜之沉淀速率, 附着度, 可靠度, 增加折射率, 穿透率等.KRI 考夫曼离子源整体设计低耗材,安装简易,维护简单广泛应用在生产企业和科研单位

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列 产品详细资料

霍尔离子源 Gridless  eH 特性：
无栅极,高电流低能量宽束型离子源
发散光束 >45

KRI 霍尔离子源 eH 200

KRI 霍尔离子源 eH 200 产品详细资料

eH200 是霍尔离子源型eH 系列中尺寸最小,低成本设计离子源

KRI 霍尔离子源 eH 400

KRI 霍尔离子源 eH 400 产品详细资料

霍尔离子源型号

eH 400,eH400 LEHO

Discharge size @ source

~ 4 cm

KRI 霍尔离子源 eH 1000

KRI 霍尔离子源 eH 1000 产品详细资料

霍尔离子源型号

eH1000,eH1000L,eH1000xO2,eH1000LEHO

Discharge size @ source

~ 5 cm

KRI 霍尔离子源 eH 2000

KRI 霍尔离子源 eH 2000 产品详细资料

霍尔离子源型号

eH2000,eH2000L,eH2000xO2,eH2000LEHO

Discharge size @ source

~ 5 cm

KRI 考夫曼离子源 RFICP 40

KRI 考夫曼离子源 RFICP 40 产品详细资料

目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内

KRI 考夫曼离子源 RFICP 100

KRI 考夫曼离子源 RFICP 100 产品详细资料

 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出 >400 mA 离子流

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