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KRi 直流溅射电源分为非脉冲直流溅射和脉冲直流溅射二大系列, 结构紧凑, 高度灵活, 适用于各品牌磁控溅射镀膜机, 稳定的控制磁控溅射阴极, 真正的电弧检测和抑制. 上海伯东美国 KRi 离子源中国总代理.
技术参数
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KRi 脉冲直流溅射电源 Pulsed‑DC Sputter |
KRi 非脉冲直流溅射电源 Non-Pulsed‑DC Sputters |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.
上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
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