KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380 应用于蓝玻璃 AR工艺

配备 800万或以上像素的手机都基本内嵌蓝玻璃滤光片的摄像头. 蓝玻璃滤光片通过 AR Coating 的镀膜, 可以增加透光率和反射红外光. 光线在透过不同介质时会产生折射和反射, 当加上单面 AR Coating 后, 滤光片会提升3～5%的透光率, 让图像更清晰且让滤光片不容易起雾. 上海伯东协助某从事光学玻璃镀膜机生产的客户, 在光学镜头材料蓝玻璃 AR工艺方面实现技术突破！

经过推荐客户采用光学镀膜机加装美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380, 在离子清洗, 辅助沉积时, 提高蓝玻璃的薄膜 / 基层物的附着性和硬度, 减少吸收残余气体的污染物和薄膜应力. 上海伯东美国 KRi 尺寸射频离子源 RFICP 380, 利用高均匀性的离子分布及高稳定的离子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸镀设备, 解决了在蓝玻璃上无法达到高质量镀膜要求的问题, 同时也提升了企业生产效能.

应用方向: 离子清洗, 辅助沉积
应用领域: 光学镜头
薄膜工艺: 蓝玻璃镀 AR增透膜
产品类别: 滤光片
镀膜设备: 1米7 的大型蒸镀设备, 配置美国 KRi 射频离子源 RFICP 380
测试环境: 80C / 80% 湿度, 85C / 95% 湿度, 连续 1,500 小时高温高湿严苛环境测试
KRI 射频离子源 RFICP 380

KRi 射频离子源

KRI 射频离子源

美国 KRi RFICP 射频离子源技术参数：

型号	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 阳极	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频
离子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直径	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

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