美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 MEMS 探针光栅刻蚀应用

高能量 22cm 栅极离子源, MEMS 探针光栅刻蚀, 材料为 Sio2 和金属, 刻蚀均匀性 ±5%

上海伯东 GEL-PAK AD / APV / AV 真空吸附盒对比

上海伯东 GEL-PAK AD / APV / AV 真空吸附盒对比

美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 MEMS 晶圆蚀刻

刻蚀 6寸或8寸 MEMS 晶圆, 材料为 Au / Ti ; 铁磁性多层膜蚀刻, 材料为 RU, Co, Fe, Pt, Ta.

KRi 射频离子源 RFICP 380 树脂镜片高性能 AR 工艺

KRi 射频离子源 RFICP 380 树脂镜片高性能 AR 工艺

美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 MEMS 探针光栅刻蚀应用

高能量 22cm 栅极离子源, MEMS 探针光栅刻蚀, 材料为 Sio2 和金属, 刻蚀均匀性 ±5%

Pfeiffer 分流式分子泵 SplitFlow 80 应用于氦质谱检漏仪

分流式分子泵独立机械和真空结构设计, 集成在氦质谱检漏仪真空系统中

Pfeiffer 分流式分子泵 SplitFlow 80 应用于氦质谱检漏仪

分流式分子泵独立机械和真空结构设计, 集成在氦质谱检漏仪真空系统中

美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 MEMS 探针光栅刻蚀应用

高能量 22cm 栅极离子源, MEMS 探针光栅刻蚀, 材料为 Sio2 和金属, 刻蚀均匀性 ±5%

Pfeiffer 普发氦质谱检漏仪 ASM 340 光学镀膜机检漏

ASM 340 光学镀膜机检漏, 真空模式下, 漏率要求达到 1X10-7 mbar l/s, 保证光学镀膜机在生产过程中的密封性.

美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 增强光学基片反射及透射率

通过玻璃镜片表面清洁 Pre-clean 和辅助镀膜 IBAD 工艺, 增强光学基片反射及透射率

ph-instruments SRG 磁悬浮转子真空计可替代 MKS, INFICON 离子规

可以替代离子规 MKS 903 AP,MKS GP 390,MKS GP 355,Inficon HPG400,Inficon MPG400 等型号

SRG 旋转转子真空计测量原理

SRG 旋转转子真空计测量原理,稳定测量优势,固有的抗污染性和坚固设计,高精度和长期稳定性

KRi 直流磁控溅射电源应用于金属靶材溅射

KRi 直流磁控溅射电源应用于金属靶材溅射

ph-instruments Dositorr SRG 磁悬浮转子真空计离子注入应用

SRG 磁悬浮转子真空计, 耐腐蚀, 无污染, 对沉积不敏感. 可替代离子注入工艺中的离子规, 解决常规离子规经常失效, 信号漂移等问题.

SRG 旋转转子真空规与离子规对比

SRG 旋转转子真空计精度高, 长期稳定, 不影响以任何方式测量的压力信号（无温度输入 / 电离 / 采集 / 漂移等）, 适用于半导体, 低温真空绝热, 高精度真空计校准系统.

SRG 磁悬浮转子规原理和特点(耐腐蚀,高精度,长期稳定)

SRG 旋转转子是一种高精度且稳定的真空测量技术, 核心感测组件是一个小型磁悬浮的钢球, 透过管件连接到真空系统内

SRG 磁悬浮转子真空计应用于显示面板腔体测量

磁悬浮转子真空计具有长期的坚固性, 高度准确和稳定的压力读数, 耐腐蚀和沉积, 即使在腐蚀工艺中, 其他仪表可能会漂移和失效, SRG 磁悬浮转子真空计无影响.

SRG 磁悬浮转子真空计应用优势

耐腐蚀和沉积, 无灯丝设计, 替代传统的离子规(冷阴极离子规或热阴极离子规)

KRi 射频离子源 RFICP 40 应用于氧化物薄膜及异质结制备系统

KRi 射频离子源 RFICP 40 应用于氧化物薄膜及异质结制备系统

美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 增强光学基片反射及透射率

通过玻璃镜片表面清洁 Pre-clean 和辅助镀膜 IBAD 工艺, 增强光学基片反射及透射率

美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 MEMS 晶圆蚀刻

刻蚀 6寸或8寸 MEMS 晶圆, 材料为 Au / Ti ; 铁磁性多层膜蚀刻, 材料为 RU, Co, Fe, Pt, Ta.

美国 KRi RFICP 220 三层栅网射频离子源适用于 8寸金属刻蚀机

三层栅网设计, 覆盖面积更大, 精密控制离子束流的能量, 方向

美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 精密光学镀膜解决方案

为精密光学镀膜提供解决方案, 适用于溅射镀, 蒸镀, 膜层均匀且牢固

美国 KRi 三层栅网射频离子源 RFICP 220 精密光学镀膜应用

镀金属反射膜, 大型望远镜--3.2米量级主镜镀膜应用的真空镀膜系统,用于改善金属膜层附着力, 降低氧化物吸收和提高环境稳定性

KRi 射频离子源 RFICP 220 8英寸 IBE 离子束刻蚀

RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE 离子束蚀刻机, 实现 300mm 和 200 mm 硅片蚀刻

SRG 磁悬浮转子真空计替代离子规适用于腐蚀和沉积环境

SRG 高精度磁悬浮转子真空计, 耐腐蚀, 无灯丝设计, 没有内在的污染源, 不会造成二次电离污染沉积. 完全替代离子规, 提供可靠的, 长期稳定的压力测试, 更适合高污染的严苛工艺环境.

ph-instruments SRG 磁悬浮转子真空计可替代 MKS, INFICON 离子规

可以替代离子规 MKS 903 AP,MKS GP 390,MKS GP 355,Inficon HPG400,Inficon MPG400 等型号

SRG 磁悬浮转子真空计应用优势

耐腐蚀和沉积, 无灯丝设计, 替代传统的离子规(冷阴极离子规或热阴极离子规)

SRG 磁悬浮转子真空计应用优势

耐腐蚀和沉积, 无灯丝设计, 替代传统的离子规(冷阴极离子规或热阴极离子规)

SRG 磁悬浮转子规原理和特点(耐腐蚀,高精度,长期稳定)

SRG 旋转转子是一种高精度且稳定的真空测量技术, 核心感测组件是一个小型磁悬浮的钢球, 透过管件连接到真空系统内

SRG 磁悬浮转子规原理和特点(耐腐蚀,高精度,长期稳定)

SRG 旋转转子是一种高精度且稳定的真空测量技术, 核心感测组件是一个小型磁悬浮的钢球, 透过管件连接到真空系统内

Pfeiffer 普发全量程真空计 PKR 251 应用于6寸碳化硅外延炉

PKR 251 测量 6寸碳化硅外延炉设备中的石英真空腔室的真空度

ph-instruments Dositorr SRG 磁悬浮转子真空计离子注入应用

SRG 磁悬浮转子真空计, 耐腐蚀, 无污染, 对沉积不敏感. 可替代离子注入工艺中的离子规, 解决常规离子规经常失效, 信号漂移等问题.

VIM-2 磁悬浮转子真空计应用于真空绝缘监测

VIM-2 磁悬浮转子真空计应用于真空绝缘监测, 测量和监控真空绝缘泄漏的压力值, 长期稳定

ph-instruments SRG 磁悬浮转子真空计可替代 MKS, INFICON 离子规

可以替代离子规 MKS 903 AP,MKS GP 390,MKS GP 355,Inficon HPG400,Inficon MPG400 等型号

ph-instruments SRG 磁悬浮转子真空计可替代 MKS, INFICON 离子规

可以替代离子规 MKS 903 AP,MKS GP 390,MKS GP 355,Inficon HPG400,Inficon MPG400 等型号

SRG 磁悬浮转子规原理和特点(耐腐蚀,高精度,长期稳定)

SRG 旋转转子是一种高精度且稳定的真空测量技术, 核心感测组件是一个小型磁悬浮的钢球, 透过管件连接到真空系统内

SRG 磁悬浮转子真空计应用优势

耐腐蚀和沉积, 无灯丝设计, 替代传统的离子规(冷阴极离子规或热阴极离子规)

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在眼科涂层 Opthalmic Coating 中的应用优势

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在镀膜行业（如光学镀膜, 硬质镀膜）中, 其稳定的真空测量可确保膜层厚度均匀性, 减少批次间差异, 提升镀膜产品光学性能与耐用性.

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在眼科涂层 Opthalmic Coating 中的应用优势

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在镀膜行业（如光学镀膜, 硬质镀膜）中, 其稳定的真空测量可确保膜层厚度均匀性, 减少批次间差异, 提升镀膜产品光学性能与耐用性.

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在眼科涂层 Opthalmic Coating 中的应用优势

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在镀膜行业（如光学镀膜, 硬质镀膜）中, 其稳定的真空测量可确保膜层厚度均匀性, 减少批次间差异, 提升镀膜产品光学性能与耐用性.

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在眼科涂层 Opthalmic Coating 中的应用优势

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在镀膜行业（如光学镀膜, 硬质镀膜）中, 其稳定的真空测量可确保膜层厚度均匀性, 减少批次间差异, 提升镀膜产品光学性能与耐用性.

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在光伏行业 Solar Collectors 中的应用优势

SRG 磁悬浮旋转转子真空计可以在玻璃管内工作, 因此可以将带有球的玻璃管焊接到玻璃真空室, 在制造过程中测量真空度.可用于光伏行业的维护, 制造和测试, 且方便拆卸

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在光伏行业 Solar Collectors 中的应用优势

SRG 磁悬浮旋转转子真空计可以在玻璃管内工作, 因此可以将带有球的玻璃管焊接到玻璃真空室, 在制造过程中测量真空度.可用于光伏行业的维护, 制造和测试, 且方便拆卸

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在光伏行业 Solar Collectors 中的应用优势

SRG 磁悬浮旋转转子真空计可以在玻璃管内工作, 因此可以将带有球的玻璃管焊接到玻璃真空室, 在制造过程中测量真空度.可用于光伏行业的维护, 制造和测试, 且方便拆卸

SRG 磁悬浮旋转转子真空计在光伏行业 Solar Collectors 中的应用优势

SRG 磁悬浮旋转转子真空计可以在玻璃管内工作, 因此可以将带有球的玻璃管焊接到玻璃真空室, 在制造过程中测量真空度.可用于光伏行业的维护, 制造和测试, 且方便拆卸

SRG 磁悬浮转子真空计替代离子规适用于腐蚀和沉积环境

SRG 高精度磁悬浮转子真空计, 耐腐蚀, 无灯丝设计, 没有内在的污染源, 不会造成二次电离污染沉积. 完全替代离子规, 提供可靠的, 长期稳定的压力测试, 更适合高污染的严苛工艺环境.

SRG 磁悬浮转子真空计替代离子规适用于腐蚀和沉积环境

SRG 高精度磁悬浮转子真空计, 耐腐蚀, 无灯丝设计, 没有内在的污染源, 不会造成二次电离污染沉积. 完全替代离子规, 提供可靠的, 长期稳定的压力测试, 更适合高污染的严苛工艺环境.

SRG 磁悬浮转子真空计替代离子规适用于腐蚀和沉积环境

SRG 高精度磁悬浮转子真空计, 耐腐蚀, 无灯丝设计, 没有内在的污染源, 不会造成二次电离污染沉积. 完全替代离子规, 提供可靠的, 长期稳定的压力测试, 更适合高污染的严苛工艺环境.

SRG 旋转转子真空规与离子规对比

SRG 旋转转子真空计精度高, 长期稳定, 不影响以任何方式测量的压力信号（无温度输入 / 电离 / 采集 / 漂移等）, 适用于半导体, 低温真空绝热, 高精度真空计校准系统.

SRG 旋转转子真空规与离子规对比

SRG 旋转转子真空计精度高, 长期稳定, 不影响以任何方式测量的压力信号（无温度输入 / 电离 / 采集 / 漂移等）, 适用于半导体, 低温真空绝热, 高精度真空计校准系统.

SRG 旋转转子真空规与离子规对比

SRG 旋转转子真空计精度高, 长期稳定, 不影响以任何方式测量的压力信号（无温度输入 / 电离 / 采集 / 漂移等）, 适用于半导体, 低温真空绝热, 高精度真空计校准系统.

VIM-2 磁悬浮转子真空计应用于真空绝缘监测

VIM-2 磁悬浮转子真空计应用于真空绝缘监测, 测量和监控真空绝缘泄漏的压力值, 长期稳定

VIM-2 磁悬浮转子真空计应用于真空绝缘监测

VIM-2 磁悬浮转子真空计应用于真空绝缘监测, 测量和监控真空绝缘泄漏的压力值, 长期稳定

ph-instruments Dositorr SRG 磁悬浮转子真空计离子注入应用

SRG 磁悬浮转子真空计, 耐腐蚀, 无污染, 对沉积不敏感. 可替代离子注入工艺中的离子规, 解决常规离子规经常失效, 信号漂移等问题.

ph-instruments Dositorr SRG 磁悬浮转子真空计离子注入应用

SRG 磁悬浮转子真空计, 耐腐蚀, 无污染, 对沉积不敏感. 可替代离子注入工艺中的离子规, 解决常规离子规经常失效, 信号漂移等问题.

SRG 磁悬浮转子真空计应用于显示面板腔体测量

磁悬浮转子真空计具有长期的坚固性, 高度准确和稳定的压力读数, 耐腐蚀和沉积, 即使在腐蚀工艺中, 其他仪表可能会漂移和失效, SRG 磁悬浮转子真空计无影响.

SRG 磁悬浮转子真空计应用于显示面板腔体测量

磁悬浮转子真空计具有长期的坚固性, 高度准确和稳定的压力读数, 耐腐蚀和沉积, 即使在腐蚀工艺中, 其他仪表可能会漂移和失效, SRG 磁悬浮转子真空计无影响.

SRG 磁悬浮转子真空计应用于显示面板腔体测量

磁悬浮转子真空计具有长期的坚固性, 高度准确和稳定的压力读数, 耐腐蚀和沉积, 即使在腐蚀工艺中, 其他仪表可能会漂移和失效, SRG 磁悬浮转子真空计无影响.

SRG 旋转转子真空计测量原理

SRG 旋转转子真空计测量原理,稳定测量优势,固有的抗污染性和坚固设计,高精度和长期稳定性

SRG 旋转转子真空计测量原理

SRG 旋转转子真空计测量原理,稳定测量优势,固有的抗污染性和坚固设计,高精度和长期稳定性

SRG 旋转转子真空计测量原理

SRG 旋转转子真空计测量原理,稳定测量优势,固有的抗污染性和坚固设计,高精度和长期稳定性

Pfeiffer 普发在线质谱分析仪 Omnistar GSD 350 应用于煤转化过程催化

对煤转化过程相关的催化材料和能源环境新材料的分析检测提供化学和物理特性信息

Pfeiffer 普发气体质谱仪 GSD 350 在线实时分析

从“静态, 离线”的研究模式转向“动态, 原位”的观察方式, 能够捕捉反应过程中的瞬时中间产物, 识别关键反应路径

pfeiffer 普发质谱分析仪 ThermoStar GSD 350 分析聚氯乙烯 PVC 燃烧产物

pfeiffer 普发质谱分析仪 ThermoStar GSD 350 分析聚氯乙烯 PVC 燃烧产物

四极杆质谱仪 PrismaPro 真空钎焊过程中的残余气体分析

真空炉监测分析钎焊, 烧结过程中的气体变化. 可定量定性评估真空系统中的残余气体成分

Pfeiffer 普发残余气体分析仪 Hicube RGA 应用于环境水分析

采用膜进样方式, 测试样本水中氮气, 氩气比等, 满足试验要求

Pfeiffer 四极杆质谱仪搭配吸附仪进行化学催化废气分析

在化学实验中对催化裂化过程中产生的废气进行测试, 确认是否有有害气体存在.

Pfeiffer 四极杆质谱仪搭配吸附仪进行化学催化废气分析

在化学实验中对催化裂化过程中产生的废气进行测试, 确认是否有有害气体存在.

Pfeiffer 普发干式氦质谱检漏仪 ASM 340D 医疗控制阀门检漏

ASM 340D 医疗控制阀门检漏, 清洁无油, 高灵敏度, 快速准确, 非侵入性测试

Pfeiffer 普发干式氦质谱检漏仪 ASM 340D 植入式医疗器械检漏

ASM 340D 植入式医疗器械检漏, 为医疗行业的微创介入, 人体植入产品的密封性检漏测试提供解决方案.

Pfeiffer 普发氦质谱检漏仪 ASM 340D 密封继电器检漏

ASM 340D 航天相关的电子元器件泄漏检测, 微型密封高可靠极化继电器要求漏率小于 1×10-9 Pa m3／s.

Pfeiffer 普发氦质谱检漏仪 ASM 340 光学镀膜机检漏

ASM 340 光学镀膜机检漏, 真空模式下, 漏率要求达到 1X10-7 mbar l/s, 保证光学镀膜机在生产过程中的密封性.

Pfeiffer 普发氦质谱检漏仪 ASM 340 操作说明

ASM 340 简短操作说明, 适用机型 ASM 340 WET , ASM 340 DRY

KRi 霍尔离子源 EH 400 不规则电子晶片蒸镀前清洗

霍尔离子源 EH 400 应用于蒸发镀膜机, 不规则电子晶片蒸镀前清洗

KRi 霍尔离子源 EH 400 HC 应用于 IBE 离子束刻蚀机

霍尔离子源 EH 400 HC 实现 2英寸硅芯片蚀刻

KRi 霍尔离子源 EH 3000 IBAD 辅助镀膜

大尺寸霍尔离子源 EH 3000 应用于直径 2.2m 蒸镀机, 用于蒸镀 1.5m 天文望远镜镜片

美国 KRi 霍尔离子源 EH 3000 应用于蒸镀直径 2.2m 天文望远镜

霍尔离子源 EH 3000 应用于蒸镀直径 2.2m 天文望远镜, 镀全反射膜, 高均匀性及高致密性的膜层可以保障光源有效反射, 尽可能减少吸收

IBE 离子束刻蚀机物理量传感器 MEMS 刻蚀应用

离子束刻蚀机 IBE 可以很好的解决传感器 MEMS 的刻蚀难题, 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状, 刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料.

IBE 离子束刻蚀机物理量传感器 MEMS 刻蚀应用

离子束刻蚀机 IBE 可以很好的解决传感器 MEMS 的刻蚀难题, 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状, 刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料.

IBE 离子束刻蚀机物理量传感器 MEMS 刻蚀应用

离子束刻蚀机 IBE 可以很好的解决传感器 MEMS 的刻蚀难题, 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状, 刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料.

铌酸锂 LiNbO3 薄膜 IBE 离子束刻蚀

因 LiNbO3 惰性特性, 使用 ICP 或 RIE 工艺无法完成刻蚀, 上海伯东 IBE 离子束刻蚀机为铌酸锂 LiNbO3 薄膜刻蚀提供解决方案

铌酸锂 LiNbO3 薄膜 IBE 离子束刻蚀

因 LiNbO3 惰性特性, 使用 ICP 或 RIE 工艺无法完成刻蚀, 上海伯东 IBE 离子束刻蚀机为铌酸锂 LiNbO3 薄膜刻蚀提供解决方案

铌酸锂 LiNbO3 薄膜 IBE 离子束刻蚀

因 LiNbO3 惰性特性, 使用 ICP 或 RIE 工艺无法完成刻蚀, 上海伯东 IBE 离子束刻蚀机为铌酸锂 LiNbO3 薄膜刻蚀提供解决方案

IBE 离子束刻蚀机刻蚀应用

上海伯东提供 4-8寸 IBE 离子束刻蚀机, 可以实现 ICP 或 RIE 无法进行的刻蚀, 几乎满足所有材料的刻蚀

IBE 离子束刻蚀机刻蚀应用

上海伯东提供 4-8寸 IBE 离子束刻蚀机, 可以实现 ICP 或 RIE 无法进行的刻蚀, 几乎满足所有材料的刻蚀

IBE 离子束刻蚀机刻蚀应用

上海伯东提供 4-8寸 IBE 离子束刻蚀机, 可以实现 ICP 或 RIE 无法进行的刻蚀, 几乎满足所有材料的刻蚀

IBE 离子束刻蚀机刻蚀材料和速率

上海伯东 IBE 离子束刻蚀机可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料.是一种干法物理纳米级别的刻蚀, 刻蚀均匀性 ≤±5%(部分材料 ±3%).

IBE 离子束刻蚀机刻蚀材料和速率

上海伯东 IBE 离子束刻蚀机可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料.是一种干法物理纳米级别的刻蚀, 刻蚀均匀性 ≤±5%(部分材料 ±3%).

IBE 离子束刻蚀机刻蚀材料和速率

上海伯东 IBE 离子束刻蚀机可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料.是一种干法物理纳米级别的刻蚀, 刻蚀均匀性 ≤±5%(部分材料 ±3%).

IBE 离子束刻蚀设备 MRAM 磁性存储器干法刻蚀应用

刻蚀不易刻蚀的金属或合成堆栈膜层 Ta, Ru, Pt … 及介质层 SiO2, SiNx …

IBE 离子束刻蚀设备 MRAM 磁性存储器干法刻蚀应用

刻蚀不易刻蚀的金属或合成堆栈膜层 Ta, Ru, Pt … 及介质层 SiO2, SiNx …

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刻蚀不易刻蚀的金属或合成堆栈膜层 Ta, Ru, Pt … 及介质层 SiO2, SiNx …