上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 为精密光学镀膜提供解决方案, 适用于溅射镀, 蒸镀, 膜层均匀且牢固, 满足企业研发生产各类精密光学镀膜机, 助力薄膜真空镀膜技术的发展.


KRi 射频离子源 RFICP 220 IBAD 辅助镀膜
加装上海伯东美国 KRi 射频离子源进行 IBAD 辅助镀膜工艺旨在满足客户对红外, 深紫外甚至极端波长范围严苛的规格要求. 镀膜种类包括用于截止滤光片 (短通和长通), UV 和 IR 截止滤光片, 负滤光片和窄带滤光片, 二色性彩色滤光片和偏振分光器, 用于激光器的 AR 和 HR 镀膜等. 加装后的精密光学镀膜机典型应用: 光学滤波器批量生产. 针对深紫外 DUV 到可见光谱 VIS 和红外 IR 光谱范围的应用.

真空环境下, KRi 射频离子源通过向生长的薄膜中添加能量来增强分子动力学, 以增加表面和原子 / 分子的流动性, 实现薄膜的致密化或通过向生长薄膜中添加活性离子来增强薄膜化合物的化学转化, 从而得到需要的材料. 同时 KRi 射频离子源可以对工艺过程优化, 无需加热衬底, 对温度敏感材料进行低温处理, 简化反应沉积, 镀膜品质均匀且牢固.

KRi 射频离子源 RFICP 220 基本规格
射频离子源 RFICP 220 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长!  提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

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