美国 KRi RFICP 220 三层栅网射频离子源适用于 8寸金属刻蚀机

上海伯东美国 KRi RFICP 220 三层栅网射频离子源, 射频频率 2mhz, 射频自动匹配, 不影响等离子体放电性能, 减少加热, 故障和电磁干扰的风险, KRi RFICP 220 三层栅网设计, 覆盖面积更大, 精密控制离子束流的能量, 方向, 保障输出束流质量的同时最小化能量损耗. 对污染的工艺环境, 具备一定的防护作用,满足 8寸金属刻蚀机的应用需求.
KRi RFICP 220 三层栅网射频离子源适

KRi RFICP 220 三层栅网射频离子源 8寸金属刻蚀机应用优势
直径 22cm 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束
射频频率 2mhz, 射频自动匹配
三层栅网设计
刻蚀材料: 包括并不限于硅, 石英, Ⅲ-Ⅴ族化合物, 合金, 陶瓷等
刻蚀均匀性: ±5%

KRi RFICP 220 射频离子源基本参数:

阳极	电感耦合等离子体 2kW & 2 MHz 射频自动匹配
最大阳极功率	>1kW
最大离子束流	> 1000mA
电压范围	100-1200V
离子束动能	100-1200eV
气体	Ar, O2, N2, 其他
流量	5-50 sccm
压力	< 0.5mTorr
离子光学, 自对准	OptiBeamTM
离子束栅极	22cm Φ
栅极材质	钼
离子束流形状	平行,聚焦,散射
中和器	LFN 2000 or RFN
高度	30 cm
直径	41 cm
锁紧安装法兰	10”CF

上海伯东美国 KRi RF 射频离子源无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.
KRi 射频离子源 RFICP