KRi 考夫曼离子源 KDC 100 应用于 IBE 离子束刻蚀机

KRi 射频离子源应用于 12英寸和8英寸金属蚀刻机中

美国 KRi RFICP 220 三层栅网射频离子源适用于 8寸金属刻蚀机

KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用

KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用

KRi 考夫曼离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用

KRi 离子源常见工艺应用

美国 KRi 射频离子源 RFICP 100 应用于国产离子束溅射镀膜机 IBSD

KRI 离子源应用于有机材料热蒸镀设备 OLED, OPV

KRi 射频离子源应用于超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter