电源控制器 Power Supplies 可以操作各种离子, 等离子体和电子源
输出稳定和可重复功率的动态负载
可以在恶劣的环境中正常运转
易于系统集成
KRi 离子源电源控制器 Power Supplies 输出稳定和可重复
技术规格
上海伯东美国 KRi 提供的离子源模块化电源控制器, 可以操作各种离子, 等离子体和电子源, 用于在等离子体处理中, 输出稳定和可重复功率的动态负载. 可以在恶劣的环境中正常运转, 易于系统集成.
离子源电源控制器由多个模组组成, 模组的特性取决于功率, 频率, 电压, 电流和控制方式, 大多数模组都满足 CE 和 CoHS 标准.
连续性和稳定性: 能够在紧急情况下比如载入高能量的等离子体, 短路, 电流过冲, 电压过冲和功率过冲的情况, 实现保护功能. 确保在运行沉积和刻蚀工艺时进行不间断的操作. 通过数显的面板, 可以即时观测和控制工艺参数和状态资讯.
KRi 模块化电源包括但不限于以下产品:
无栅网霍尔电源
DC 直流电源集成中和器
RFICP 射频电源
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电源控制器型号 |
对应 KRi 离子源型号 |
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RF1520-220 1500V & 2.0 output |
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RF1510-220 1500V & 1.0A output |
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RF1510-206 1500V & 1.0A output |
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RF1510-206 1500V & 1.0A output |
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RF1502-206 1500V & 0.2A output |
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KSC1212 100V & 13A Output |
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KSC 1202 100V & 10A output |
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.
上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
若您需要进一步的了解 KRi 离子源 详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 叶小姐 台湾伯东: 王小姐
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应用案例
上海伯东针对不同客户, 提供定制化解决方案并能与客户携手合作研发新的项目应用