上海伯东是美国 KRI 考夫曼离子源中国总代理. 经过实践, 美国考夫曼公司霍尔离子源控制器替代 Veeco Commonwealth 控制器, 不需更改任何镀膜机计算机程序及相关设定即可直接运做!

美国 KRI 霍尔源控制器提供全自动控制器 Auto Controller, 灯丝控制器 Filament Controller, 阳极控制器 Discharge Controller, 运作时可以选择全自动匹配 Auto Gas, 半自动匹配 Manual Gas 及全手动匹配 Gas Only 三种操作选项.

在全自动匹配模式下, 自动控制器依照客户所设定的阳极电流 Vd 及阳极电压 ID 自动调整气体以维持工艺所需要的离子束能量. 全自动控制器可以记忆四组离子参数, 工艺中更换参数组别时可以在离子束点火中直接切换参数组别, 不需重新熄火点燃离子束, 以达到稳定的离子束状态.

离子源典型案例:
1. 设备: 1.3 米镀膜机
2. 基材: 塑胶护目镜

3. 离子源条件: Vb: 140V ( 离子束阳极电压 ), Ib: 2.5A (离子束阳极电流), O2 gas: 9sccm (氧气).


上海伯东是美国考夫曼离子源  Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国 KRi 霍尔离子源全自动匹配, 四组参数记忆, 可同时控制四种气体流量的设计, 可以提供更方便的操作及获得更稳定的离子束. KRI 霍尔源控制器可以替换 Veeco Commonwealth 控制器！

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

若您需要进一步的了解 KRi 离子源 详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：
上海伯东: 叶小姐                                                 台湾伯东: 王小姐
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )              T: +886-3-567-9508 ext 161
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KRi 霍尔离子源控制器成功替代 Veeco Commonwealth 控制器