上海伯东德国 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 700 成功应用于日本原装进口离子束刻蚀机 IBE, 根据客户实际需求, 提供整套定制方案, 45分钟内真空度达到 1X10^-5 hPa, 24小时内的极限真空 8X10^-7 hPa.


定制 IBE 离子束刻蚀机, 真空系统条件
圆柱型真空室 *1: φ406mm, 长度 400mm, 材料 SUS 304

真空系统主要配置
上海伯东德国 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 700. 对氮气抽速可达到 685 l/s, 紧凑设计, 低能耗的同时保证更高抽吸能力, 占地面积小, 任意位置安装. 适用于工业环境-保护等级 IP 54, 通过半导体 S2, UL / CSA 认证. 

真空测量

在试验条件下 (试验台上没有安装基材和橡胶) 测试后, IBE 真空系统满足下述要求.
腔室极限真空 8X10^-7 hPa
蚀刻工作压力 3X10^-4 hPa
45分钟内达到 1X10^-5 hPa
24小时内的极限真空 8X10^-7 hPa

IBE 离子束刻蚀机是一种干法工艺中的微加工设备, 适用于薄膜磁头, 复合半导体, SAW 器件等的生产和研发. 尤其适用于磁性材料, 金, 铂及各类合金等的铣削加工. 上海伯东提供按需定制的整套刻蚀设备, 也提供适用于离子束刻蚀机的涡轮分子泵, 真空规, 离子源等产品.

上海伯东销售维修 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 系列凭借紧凑结构和卓越性能, 适用于高真空和超高真空应用.HiPace 涡轮分子泵采用混合或磁悬浮轴承系统, 确保低噪音和低振动运行. 此外,  涡轮分子泵 HiPace 还提供特殊型号, 包括针对氢气等轻质气体压缩的版本, 以及配备耐腐蚀涂层的型号. 这些丰富的专用版本选择, 使 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 为涂层, 半导体制造和分析应用提供更优的解决方案.

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Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 700 应用于离子束刻蚀机