ITO Indium Tin Oxide, 銦錫氧化物, 结晶具有体心立方铁锰矿结构, 是一种重掺杂, 高简并的宽禁带型半导体材料, 具有优良的导电性, 可见光透过率以及红外反射率, 而且还具有高硬度, 耐磨性, 耐化学腐蚀特性. 因此广泛应用于平板显示器 FPD 和太阳能电池. 通常制备 ITO 薄膜的方法有溶胶凝胶法, 磁控溅射法, 脉总激光沉积和电子束蒸发等.

ITO 镀膜过程必须在干净清洁的真空系统中
上海伯东普发 Pfeiffer HiPace 涡轮分子泵清洁无油, 最大极限真空度可达 10-11mbar, 转子速率可达 90000rpm, 广泛应用于ITO 镀膜生产线.

上海伯东 ITO 镀膜生产线客户案例: 深圳某企业为全球最热门的苹果公司提供手机显示屏, Pfeiffer 分子泵因其优秀性能应用在 ITO 生产线中,上海伯东作为德国普发 Pfeiffer 真空设备中国区销售公司, 提供完善的售前,售后服务并得到客户一致的好评.
上海伯东销售维修 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 系列凭借紧凑结构和卓越性能, 适用于高真空和超高真空应用.HiPace 涡轮分子泵采用混合或磁悬浮轴承系统, 确保低噪音和低振动运行. 此外,  涡轮分子泵 HiPace 还提供特殊型号, 包括针对氢气等轻质气体压缩的版本, 以及配备耐腐蚀涂层的型号. 这些丰富的专用版本选择, 使 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 为涂层, 半导体制造和分析应用提供更优的解决方案.

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Pfeiffer 普发涡轮分子泵应用于 ITO 镀膜生产线