PVD 即物理气相沉积, 是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术, 在真空条件下, 利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化, 在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上. 它具有沉积速度快和表面清洁的特点, 特别具有膜层附着力强, 绕性好, 可镀材料广泛等优点. PVD镀膜技术广泛应用于各类产品加工制造.

PVD 镀膜设备需要清洁的高真空
由于目前对真空镀膜设备的清洁度, 镀膜层的质量, 所用材料等要求的不断提高, 传统的以油扩散泵为主的真空系统因油蒸汽污染的原因, 已经无法满足使用要求. 因此, 以分子泵为主的无油真空镀膜系统已逐渐成为市场的主流. 上海伯东普发 Pfeiffer 分子泵依靠自身过硬技术在全球分子泵领域一直处于主导地位.根据客户实际需要, 成功和国际,国内知名镀膜涂层设备制造商长期合作.

上海伯东 PVD 镀膜设备客户案例一: 某知名真空技术公司汽车活塞环镀膜机, 硬质涂层
每个系统配置2台涡轮分子泵 HiPace 2300


上海伯东 PVD 镀膜设备客户案例二: 欧洲 platit 工具镀膜, 主要使用德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 系列
前级泵配备干式真空泵 Pfeiffer 普发隔膜泵 MVP 系列


上海伯东 PVD 镀膜设备客户案例三：某生产夜视镜（多碱金属镀膜）企业
主要使用 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 400

上海伯东销售维修 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 系列凭借紧凑结构和卓越性能, 适用于高真空和超高真空应用.HiPace 涡轮分子泵采用混合或磁悬浮轴承系统, 确保低噪音和低振动运行. 此外,  涡轮分子泵 HiPace 还提供特殊型号, 包括针对氢气等轻质气体压缩的版本, 以及配备耐腐蚀涂层的型号. 这些丰富的专用版本选择, 使 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 为涂层, 半导体制造和分析应用提供更优的解决方案.

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Pfeiffer 普发涡轮分子泵应用于 PVD 镀膜设备