脉冲激光沉积系统 PLD 可用来制备金属和各种物质薄膜, 甚至还用来制备一些难以合成的材料膜. 为了提高 PLD 系统的真空度和加快抽空时间, 经过伯东推荐选用分子泵+分子泵组串联组合的形式来提高系统的真空度. 更快达到其使用要求.

涡轮分子泵组应用于脉冲激光沉积系统 PLD 客户案例一: 上海伯东某客户选用美国相干 Coherent 公司出产的 COMPexPro205 型 KrF 激光器, 用于原位生长不同材料的多层薄膜. 通过伯东推荐采购 2台涡轮分子泵组 Hicube 80 Eco


涡轮分子泵组应用于脉冲激光沉积系统 PLD 客户案例二: 某大学采购 PLD 系统, 使用伯东 Pfeiffer 分子泵和涡轮分子泵组.

上海伯东德国 Pfeiffer HiCube 80 便携式分子泵组, 可以提供原有的真空度水平至半个数量级或加快抽空时间！

上海伯东 Pfeiffer 分子泵组 HiCube Eco 技术规格

上海伯东 Pfeiffer普发涡轮分子泵组HiCube Neo抽速范围 80 至 800 l/s, 满足高真空应用, 使用分子泵 HiPace H 时，真空度可达 <10-10hPa 的超高真空. 上海伯东针对您的应用推荐分子泵组配置, 可选配不同型号的分子泵, 前级泵 (隔膜泵, 旋片泵, 涡旋泵和多级罗茨泵), 并提供台式和移动式两种类型. HiCube Neo 涡轮分子泵组采用即插即用的操作方式, 可立即投入使用, 推荐搭配 Pfeiffer 真空计共同使用.

若您需要进一步的了解 Pfeiffer 普发涡轮分子泵组 HiCube详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：
上海伯东: 叶小姐                                                台湾伯东: 王小姐
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )              T: +886-3-567-9508 ext 161
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Pfeiffer 普发涡轮分子泵组应用于脉冲激光沉积系统 PLD