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适用于脉冲直流磁控溅射, 功率可达 3000 瓦
小于 100 纳秒电弧检测, 1 微秒电弧抑制处理
反向电压最高可调节至 150 伏
电压范围 0‑1000 伏, 最大输出电流 10 安
工作频率可调
极低电弧能量
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KRi 脉冲直流溅射电源 最大输出电流 10 安
簡介
适用于脉冲直流磁控溅射, 功率可达 3000 瓦
小于 100 纳秒电弧检测, 1 微秒电弧抑制处理
反向电压最高可调节至 150 伏
电压范围 0‑1000 伏, 最大输出电流 10 安
工作频率可调
极低电弧能量
技术规格
上海伯东美国 KRi 离子源中国总代理. KRi Pulsed DC Sputter 脉冲直流溅射电源适用于脉冲直流磁控溅射, 功率可达 3000 瓦, 电压范围 0‑1000 伏, 最大输出电流 10 安.
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参数类别 |
详细规格 |
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产品型号 |
KRi 脉冲直流溅射电源 |
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输出功率 |
3000 瓦 |
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工作模式 |
脉冲直流 (Pulsed DC) |
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最大脉冲频率 |
高达 100 kHz |
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输出电压范围 |
0 - 1000 V |
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电弧检测速度 |
200 纳秒 |
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可调参数 |
占空比, 电弧检测延迟, 重启关闭时间 |
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监控功能 |
运行定时器, kWh计数器, 时间限制 |
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通信接口 |
RS-232, 模拟接口 |
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特色设计 |
宽范围输出, 无需变压器抽头切换 |
