上海伯东日本 NS 离子束刻蚀机可以用来刻蚀最大 8寸的几乎任何固体材料, 包括金属, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半导体, 绝缘体等.使用考夫曼型离子源, 栅网拉出的离子束的能量和密度可以独立控制, 提升了工艺可控性; 刻蚀机载片台的角度可调整, 实现离子束倾斜入射, 可用于特殊图案的刻蚀, 也适用于侧壁清洗等工艺, 支持批量多片刻蚀工艺



上海伯东离子束刻蚀机典型刻蚀材料

IBE 离子束刻蚀机应用优势
1. 干法刻蚀, 物理蚀刻, 纳米级别的刻蚀精度; 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状


2. 基板直接加装在直接冷却装置上,可以在低温环境下蚀刻; 配置公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面. 刻蚀均匀性 ≤±5%


3. 几乎满足所有材料的刻蚀, IBE 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
4. 可选配德国  Pfeiffer 分子泵和旋片泵, 客制化设计, 超高自由度, 设计紧凑, 占地面积小

5. 支持批量多片刻蚀工艺


上海伯东离子束刻蚀机典型应用: 可根据客户的要求进行定制. 离子束刻蚀作为干法蚀刻工艺中的微细加工被广泛应用. 由于是不伴随化学反应的物理蚀刻工艺, 因此不仅适用于Au, Pt, 磁性材料等难蚀刻材料的加工, 也适用于由多个金属膜形成的多层膜蚀刻工艺. 

1. MEMS 传感器芯片刻蚀: PT, PZT, Au, Pt, W, Ta (electrode) 等等…
2. 光栅刻蚀: 薄膜铌酸锂（LN）光栅耦合器制备, 闪耀罗兰光栅制作, AR 眼镜斜光栅制备, GaN光栅制造
3. 磁性器件: Ni-Fe, Ni-Co, TiO2, BST, Co-Fe, Ta, Cu, Ni-Mo, SiO2 等等…
4. 自旋电子学: 选配终点检测器, 可实现超薄磁性层刻蚀控制.

伯东公司超过 50年的离子刻蚀市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术!