KRi 考夫曼离子源
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KRi 电子中和器 LFN2000

KRi 电子中和器 LFN2000
KRi 电子中和器 LFN2000

安装在离子源侧面的非浸入式电子源. 它的工作范围适用于低发射电流有利的应用

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KRi 电子中和器 LFN2000 非浸入式电子源

簡介

安装在离子源侧面的非浸入式电子源. 它的工作范围适用于低发射电流有利的应用

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技术规格

上海伯东美国 KRi 电子中和器 Electron Sources, 提供几种类型的低能量高电流电子源. 电子源技术包含浸入式热离子灯丝和非浸入式空心阴极发射器. 型号包含灯丝型中和器 Filament Neutralizer , 空心阴极中和器 Hollow Cathode Neutralizers, LFN2000, RFN3000,

通常, 这些电子源可以作为阴极和/或中和器与等离子体或离子源结合使用. 它们在惰性和反应性气体环境中的操作是标准的. 电子源的发射电流是用电流反馈回路测量和控制. 由于这种精确可靠的电子源, KRi 电子中和器成功地用于静电敏感应用和介电材料环境.

KRi
电子中和器安装在材料处理环境中, 作为中和器集成到离子束源上, 或者可以集成到等离子体放电的电离过程中. 在其他应用中, 可以与磁控管阴极一起安装以调整溅射操作.

KRi
电子中和器 Electron Sources 功能
离子束中和: 射频离子源, 考夫曼离子源, 霍尔离子源和阳极层源
等离子体产生中的电离: 射频离子源, 考夫曼离子源, 霍尔离子源
在正偏置分析仪器中, 电中和
磁控溅射中增强的电子通量


主要型号

 

 

 

 

灯丝型中和器 Filament Neutralizer

空心阴极中和器 Hollow Cathode Neutralizers

RFN3000

LFN2000

一般用于阴极和/或中和器与等离子体或离子源结合使用

空心阴极是 KRi 提供的几种低能量和高电流电子源之一.通常用作离子和等离子体束受控生产中的中和剂或阴极

通常安装在材料加工环境中, 并在离子和等离子束的受控生产中用作中和剂或阴极

安装在离子源侧面的非浸入式电子源. 它的工作范围适用于低发射电流有利的应用

各式配置

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