上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 eH 1000 安装于磁控溅射设备对聚氨酯类的材料进行清洗前处理.
在进行镀膜等工艺前, 对原样品的表面平整度, 洁净程度等参数会有不同的要求. 对于不达标的样品需要进行前处理, KRI 霍尔离子源可以很好的解决这类的问题.

KRI 离子源清洗在真空室中进行, 基板表面清洁后可以立即沉积, 短停留时间暴露于真空背景清洁并活化基材表面比辉光放电更清洁, 生产率更高; 无需基板偏置, 无需高压, 消除了大多数腔室壁的溅射, 没有额外的抽空, 很好地提高了整体工艺的效率与质量.

KRI 霍尔离子源清洗样品示意图:

上海伯东 KRI 霍尔离子源可以在低功耗的情况下进行大电流的工作, 很好的处理样品的清洁度和平整度.可以根据不同的工艺要求来控制样品表面的光滑 / 粗糙程度. 一致且可靠地去除表面污染物, 以暴露原始基材, 达到清洗前处理的作用, 稳定工艺并提高产品产量.

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

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KRi 霍尔离子源 EH 1000 应用于聚氨酯类的材料进行清洗前处理