上海伯东美国 KRi 大尺寸霍尔离子源 eH 2000 安装于高性能电子束光学镀膜机, 实现 300 mm 望远镜镜片镀膜.

KRi 霍尔离子源 EH 2000 望远镜镜片镀膜
设备: 电子束镀膜机
应用: 光学镀膜, 300 mm 望远镜镜片镀金 Au, 最外层镀一层二氧化硅 SiO2, 做为保护膜, 黄金对于红外波段有着极高的反射率, 增强镜面的红外线反射能力.

工艺过程: IBAD 辅助镀膜, 通过使用美国 KRi 霍尔离子源可以实现增强和控制薄膜性能, 薄膜致密化的改进, 控制薄膜化学计量, 提高折射率, 降低薄膜应力, 控制薄膜微观结构和方向, 提高薄膜温度和环境稳定性, 增加薄膜附着力, 激活表面,平滑的薄膜界面和表面,降低薄膜吸收和散射,增加硬度和耐磨性.


KRi 霍尔离子源 EH 2000 特点

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

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