光学镀膜 optics coating, 在现代生产被广泛应用, 例如玻璃镀膜, 镜片镀膜, 显微镜镜片镀膜, 装饰灯罩镀膜都是生产工艺之一. 蒸发镀膜作为一种常见的制程, 比较容易出现膜层不均匀, 或是产品膜层脱落的现象, 使用美国 KRI考夫曼离子源可以解决此类问题, 因此美国 KRI 考夫曼霍尔型离子源广泛加装在各类蒸发镀膜机中

离子源辅助镀膜客户案例一: 厦门某光学镀膜企业, 该企业使用日本品牌真空镀膜机, 镀膜腔体约 2 m3  , 镀膜机加装霍尔离子源 EH 4200 起到预清洁 PC及辅助镀膜 IBAD 的作用.

离子源辅助镀膜具体操作, 霍尔离子源预清洁 PC +辅助镀膜 IBAD : 由于膜层表面很光滑,在镀膜时会产生膜层脱落现象, 预清洁就是将膜层表面用大的离子如 Ar 打击表面, 使得制程物能吸附在表面上. 加装KRI霍尔离子源起到预清洁作用, 在预清洁后开启离子源辅助镀膜 IBAD, 膜层厚度均匀性及附着牢固度都明显提高。
工作示意图如下, KRI离子源覆盖面


使用专业测膜记号笔, 可以明显看出加装 KRI 离子源前后有很大的不同

 

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

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