上海伯东某 OEM 客户研发生产科研用真空镀膜和沉积设备. 经过伯东推荐真空部分采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 80 和高精度薄膜真空规 CMR 361 用于定制大型脉冲激光沉积 Pulsed Laser Deposition 系统. 从而实现该系统制备金属, 半导体, 氧化物, 氮化物, 碳化物, 硼化物, 硅化物, 硫化物及氟化物等各种物质薄膜和制备一些难以合成的材料膜, 如金刚石, 立方氮化物膜等.

科研定制 PLD 系统配置:
分子泵 HiPace 80 *8
薄膜真空规 CMR 361 *3
真空规 TPR 280 *1

伯东 Pfeifer 分子泵 HiPace 80 主要参数和抽气性能

上海伯东德国 Pfeiffer 涡轮分子泵适用于
分析仪器: 电子显微镜, 检漏, 小型质谱, 表面分析, 残余气体分析
半导体: PVD, inspection, bonding, MBE, load-locks
工业: 医学技术, 工业检漏, 隔离真空, 灯管制造
研发: 核研究, 等离子研究, 粒子加速器, 冷冻研究, 纳米技术, 生物技术

上海伯东销售维修 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 系列凭借紧凑结构和卓越性能, 适用于高真空和超高真空应用.HiPace 涡轮分子泵采用混合或磁悬浮轴承系统, 确保低噪音和低振动运行. 此外,  涡轮分子泵 HiPace 还提供特殊型号, 包括针对氢气等轻质气体压缩的版本, 以及配备耐腐蚀涂层的型号. 这些丰富的专用版本选择, 使 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 为涂层, 半导体制造和分析应用提供更优的解决方案.

若您需要进一步的了解 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：
上海伯东: 叶小姐                                                台湾伯东: 王小姐
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Pfeiffer 普发分子泵 HiPace 80 应用于 PLD 脉冲激光沉积设备