伯东公司为美国考夫曼公司离子源 离子枪 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 大中华总代理. 离子源发明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士将此专利授权 VEECO 生产. 于1978年考夫曼博士在美国自行创立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 美国考夫曼公司并历经30年离子源 离子枪之改良及研发并取得多项专利, 目前已在光学镀膜 (Optical coating), IBAD (离子源助镀), IBSD (离子溅镀), IBE (离子刻蚀), DD (离子镀膜) 等等应用领域大量使用.

KRi End Hall EH5000F (霍尔离子源) 已成功应用于大尺寸之光学镀膜机.随着市场需求,无论在于太阳眼镜光学镀膜 (AR coating), 智能型手机照相镜头 (Lens coating) 镀膜质量及效率都必须提高. 而 KRi End Hall EH5000F 霍尔离子源 离子枪已成功应用于光学镀膜中必须的辅助镀膜应用, 使得大尺寸光学镀膜机生产过程获得高生产良率.

伯东公司霍尔离子源 KRi  EH5000F 优点:
高离子浓度(High density),低能量(Low energy)
离子束涵盖面积广(high ion beam sharp)               
镀膜均匀性佳
提高镀膜品质
模块化设计,保养快速方便
增加光学膜后折射率(Optical index)      
全自动控制设计,超做简易
低耗材成本
离子源安装简易

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

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上海伯东: 叶小姐                                                台湾伯东: 王小姐
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