伯东公司为美国考夫曼公司离子源 离子枪 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 大中华总代理. 离子源发明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士将此专利授权 VEECO 生产. 于1978年考夫曼博士在美国自行创立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 美国考夫曼公司并历经30年离子源 离子枪之改良及研发并取得多项专利, 目前已在光学镀膜 (Optical coating), IBAD (离子源助镀), IBSD (离子溅镀), IBE (离子刻蚀), DD (离子镀膜) 等等应用领域大量使用.

KRi End Hall EH5000F (霍尔离子源) 已成功应用于大尺寸之光学镀膜机.随着市场需求,无论在于太阳眼镜光学镀膜 (AR coating), 智能型手机照相镜头 (Lens coating) 镀膜质量及效率都必须提高. 而 KRi End Hall EH5000F 霍尔离子源 离子枪已成功应用于光学镀膜中必须的辅助镀膜应用, 使得大尺寸光学镀膜机生产过程获得高生产良率.

伯东公司霍尔离子源 KRi  EH5000F优点:

• 高离子浓度(High density),低能量(Low energy)
• 离子束涵盖面积广(high ion beam sharp)               
• 镀膜均匀性佳
• 提高镀膜品质
• 模块化设计,保养快速方便
• 增加光学膜后折射率(Optical index)      
• 全自动控制设计,超做简易
• 低耗材成本
• 离子源安装简易