上海伯东 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 2300 应用于电子束蒸发镀膜

电子束蒸镀是 PVD 薄膜沉积技术的一种. 与传统热阻蒸镀方式不同, 电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材, 使之融化进而沉积在基片上. 电子束蒸镀可以镀出高纯度高精度的薄膜. 电子束是一种高速的电子流. 电子束蒸发是目前真空镀膜技术中一种成熟且主要的镀膜方法, 它解决了电阻加热方式中膜料与蒸镀源材料直接接触容易互混的问题. 电子束蒸发广泛应用于家电电器, 钟表, 灯具, 工艺美术品, 玩具, 车灯反光罩, 手机按键外壳以及仪器仪表, 塑料, 玻璃, 陶瓷、磁砖等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层.

电子束蒸镀是利用加速电子轰击镀膜材料, 电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发并成膜. 电子束加热蒸镀的特点是能获得极高的能量密度, 最高可达 109w/cm2, 加热温度可达 3000～6000℃, 可以蒸发难熔金属或化合物; 被蒸发材料置于水冷的坩埚中, 可避免坩埚材料的污染, 制备高纯薄膜; 另外, 由于蒸发物加热面积小, 因而热辐射损失减少, 热效率高

电子束蒸发镀膜需要高真空环境！
电子束蒸发法是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料, 使蒸发材料气化并向基板输运, 在基底上凝结形成薄膜的方法. 常见于半导体科研工业领域. 利用加速后的电子能量打击材料标靶, 使材料标靶蒸发升腾. 最终沉积到目标上.
在蒸发镀膜设备中, 真空镀膜室的本底真空度要求较高, 一般真空度越高, 腔室内杂质气体的量越少, 镀膜材料在沉积到基片上的过程中, 与环境中的杂质气体碰撞变少, 粒子的能量大, 可以在基片上形成更致密均匀的膜, 由于分子泵的无油和高真空特性, 逐渐取代了有油的扩散泵成为最普遍的真空系统, 上海伯东德国普发 Pfeiffer 分子泵成功应用于此.

上海伯东电子束蒸发镀膜客户案例一: 某大学微电子学系, 电子束蒸发镀膜系统配置德国 Pfeiffer 分子泵 HiPace 2300, 用于生长半导体材料, 金属膜, Mn 氧化物膜. 系统主要参数如下
1. 真空度要求: 5x10-7 mbar
2. 基片尺寸: ≤Ф12英寸
3. 电子枪功率: 5-10KW
4. 衬底温度：350℃
7. 温度均匀性：±10℃
7.样平台转速：≤20r/min
8. 坩埚数量：4
9. 镀膜均匀性：±5%（Al）
10. 控制系统：PC+PLC全自动控制

电子束蒸发真空系统配置

	涡轮分子泵 HiPace 2300 接口: DN 250 CF-F 极限真空: < 5X10-10 mbar 氮气压缩比: > 1X1011 抽速: 1900 l/s
	全量程真空计 PKR 251 测量范围: 5E-9至 1000 如下三种接口可选 DN25 ISO-KF DN40 ISO-KF DN40 CF-F