激光分子束外延 Lazer MBE 是一种晶体生长技术, 将半导体衬底放置在超高真空腔体中, 和将需要生长的单晶物质按元素的不同分别放在喷射炉中, 由分别加热到相应温度的各元素喷射出的分子流能在衬底上生长出极薄的. 可薄至单原子层水平, 单晶体和几种物质交替的超晶格结构. 分子束外延主要研究的是不同结构或不同材料的晶体和超晶格的生长, 该方法生长温度低, 能严格控制外延层的层厚组分和掺杂浓度.

分子束外延系统需要高真空环境!
外延系统中的超高真空腔体对真空度要求及其高, 对真空腔体的密封性, 材料放气率, 微量杂质气体和水蒸气比较敏感,德国分子泵可提供稳定的真空环境, 对晶格的生长起到良好的作用

上海伯东激光分子束外延 Lazer MBE 客户案例一: 某真空设备商采购Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 400, HiPace 80 用于激光分子束外延系统, 系统功能
1. 主要针对金属薄膜及材料器件的氧化物外延生长
2. 超高真空生长室, 直径 12英寸.
3. 额定基压：<1x10-6 Torr
4. 配有12个加热泄流源.
5. 衬底加热器加热温度 950℃
6. 可放置 6个1"的靶及 3个2"的靶
7. 质量流量计控制进入真空腔的流量, 量程 100sccm.
8. 线型进样室实现全自动送片


分子束外延超高真空系统配置

	涡轮分子泵 HiPace 400 接口: DN 100 CF-F 极限真空: < 5X10-10 mbar 氮气压缩比: > 1X1011 抽速: 355 l/s
	涡轮分子泵 HiPace 80 接口: DN 63 CF-F 极限真空: < 5X10-10 mbar 氮气压缩比: > 1X1011 抽速: 67 l/s
	隔膜泵 MVP 020 口径: DN 8+G1/8” 极限真空: 3 mbar 抽速: 1.2 m3/h

上海伯东销售维修 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 系列凭借紧凑结构和卓越性能, 适用于高真空和超高真空应用.HiPace 涡轮分子泵采用混合或磁悬浮轴承系统, 确保低噪音和低振动运行. 此外,  涡轮分子泵 HiPace 还提供特殊型号, 包括针对氢气等轻质气体压缩的版本, 以及配备耐腐蚀涂层的型号. 这些丰富的专用版本选择, 使 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 为涂层, 半导体制造和分析应用提供更优的解决方案.

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Pfeiffer 普发涡轮分子泵应用于激光分子束外延 Lazer MBE