上海伯东某专业从事 OLED 设备制造商, 经过伯东推荐该设备真空系统配置 Pfeiffer 分子泵  HiPace 700 , 双级旋片泵 DUO 35 和美国 HVA 插板阀, 成功替换此设备原先使用的日本低温泵. 此款 OLED 设备适用于有机半导体照明客户.

OLED 设备基本技术要求如下:
1.  腔体体积: 约 150 L 左右
2.  极限真空度: 1 x 10-7 mbar
3.  30 分钟 – 1 小时内达到 5 x 10-5 mbar
4.  Gas: Ar, O2

真空系统配置

此类  OLED 镀膜机, 用加热使材料蒸发的方法, 在衬底上沉积各种化合物, 混合物单层或多层膜. 主要用于有机半导体材料的物理化学性能研究实验, 上海伯东 Pfeiffer HiPace 系列分子泵搭配 DuoLine 双级旋片泵是其理想的选择!