磁控溅射  Megnetron Sputtering 是物理气相沉积 Physical Vapor Deposition, 简称 PVD 的一种, 可用于金属及氧化物薄膜的制备, 具有设备简单, 易于控制, 镀膜面积大和附着力强等优点, 磁控溅射系统对真空要求较高, 真空度一般要求在 5*10-7 至 10-10 mbar, 因此需要配置性能稳定的分子泵.

上海伯东涡轮分子泵应用于磁控溅射镀膜机客户案例: 某研究所磁控溅射系统用于光刻胶片上溅金属铬, 铜, 钛. 其中材料生长腔工作真空度要求 < 10-7 hPa, 能做到4英寸片, 3靶位, 可实现编程镀膜. 材料生长腔对涡轮分子泵的要求较高, 经过伯东推荐加装普发 Pfeiffer 分子泵 HiPace 700.


超高真空系统配置:

	涡轮分子泵 HiPace 700 接口: DN 160 CF-F 极限真空: < 5X10-10 mbar 氮气压缩比: > 1X1011
	全量程真空规 PKR 251 接口: DN40 CF-F 测量范围: 5E-9至 1000 hpa
	HVA 超过真空闸阀 11000 口径: DN 100 CF-F 极限真空: 1x10-10 mbar 手动操作

上海伯东销售维修 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 系列凭借紧凑结构和卓越性能, 适用于高真空和超高真空应用.HiPace 涡轮分子泵采用混合或磁悬浮轴承系统, 确保低噪音和低振动运行. 此外,  涡轮分子泵 HiPace 还提供特殊型号, 包括针对氢气等轻质气体压缩的版本, 以及配备耐腐蚀涂层的型号. 这些丰富的专用版本选择, 使 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 为涂层, 半导体制造和分析应用提供更优的解决方案.

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Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 700 应用于磁控溅射系统