脉冲激光沉积系统 Pulsed laser deposition 是制备高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多层异质结构和超晶格结构的物理气相沉积设备, 通常需要保证本底真空度达到 10-8mbar, 同时高真空环境对系统配置的 RHEED 及温控系统等关键设备的寿命也至关重要.

脉冲激光沉积系统 PLD 需要检漏原因
PLD 系统需要高真空环境, 腔室是否有泄露, 是否有内部材料放气等因素对实现高真空及超高真空很关键. 因此需要对整个系统进行泄漏检测. 氦质谱检漏仪利用氦气作为示踪气体可定位, 定量漏点. 因此广泛应用于 PLD 设备检漏.

脉冲激光沉积系统 PLD 检漏客户案例: 上海伯东某客户 PLD 设备用来制备各种材料, 为了保证产品质量, 采购氦质谱检漏仪 ASM 340 搭配使用.

脉冲激光沉积系统 PLD 检漏方法
采用真空模式检漏, 通过波纹管连接需要检漏的腔体, 设定好需要的漏率值
在怀疑有漏的地方喷氦气（一般需要检漏的部位是焊缝或连接处）,如果有漏,检漏仪会出现声光报警同时在屏幕上显示当前漏率值.


上海伯东推荐 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM 340 三种类型可选

结合了 Pfeiffer 与 Adixen 两家氦质谱检漏仪的技术优势, 上海伯东普发 Pfeiffer 提供氦质谱检漏仪完整的产品线, 从便携式氦质谱检漏仪到检漏模块, 提供负压检漏 (真空法) 和正压检漏(吸枪法), 满足各种应用. 氦质谱检漏仪与传统泡沫检漏和压差检漏对比, 在提供无损检漏的同时可以检测出更小的漏率 5E-13 Pa m3/s, 利用氦气作为示踪气体定位, 定量漏点. 氦质谱检漏仪满足单机检漏, 也可集成在检漏系统或 PLC. 上海伯东氦质谱检漏仪应用案例 >>

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