脉冲激光沉积 Pulsed Laser Deposition, PLD, 是一种利用激光对物体进行轰击, 然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成, 整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质, 对环境的清洁度要求较高, 必须配备无油干泵和分子泵抽真空. 由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 Pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 上海伯东普发 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小, 清洁无油（前级泵配备干泵) , 抽速快, 极限真空度高达 10-11mbar 等优点广泛应用于此设备.

上海伯东脉冲激光沉积系统 PLD 客户案例：某大学电信系 脉冲激光沉积系统
1. 系统功能：主要用于 Mn 氧化物等复杂材料膜。
2. 涡轮分子泵真空度要求: 真空度< 1x10^-6pa
3. 样品尺寸: 6英寸
4. 基片旋转, 加热温度：750℃
5. 膜生长控制模式: 镀率 / 厚度 / 时间 控制模式

 

超高真空系统配置:

上海伯东 Pfeiffer 涡轮分子泵抽速范围 10 至 3000 L/S, 转速最高 90,000 rpm, 极限真空最大 1E-11 mbar, 对小分子气体具有更高的压缩比, 实践证明 Pfeiffer 涡轮分子泵运行时间可以达到 100,000 小时! 普发分子泵提供复合轴承分子泵和五轴磁悬浮分子泵二大系列满足不同应用, 推荐搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 

Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 系列获得 Semi S2, UL, CSA 和 Nema 12 认证. 特别适用于质谱分析, 电子显微术, 测量技术, 粒子加速和等离子体物理方面的应用. 除了用于分析, 真空工艺和半导体技术外, 还可用于真空镀膜, 研发以及工业领域. 推荐分子泵典型应用 >>