脉冲激光沉积 Pulsed Laser Deposition, PLD, 是一种利用激光对物体进行轰击, 然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成, 整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质, 对环境的清洁度要求较高, 必须配备无油干泵和分子泵抽真空. 由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 Pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 上海伯东普发Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小, 清洁无油（前级泵配备干泵) , 抽速快, 极限真空度高达 10-11mbar 等优点广泛应用于此设备.

上海伯东脉冲激光沉积系统 PLD 客户案例：某大学电信系 脉冲激光沉积系统
1. 系统功能：主要用于 Mn 氧化物等复杂材料膜。
2. 涡轮分子泵真空度要求: 真空度< 1x10^-6pa
3. 样品尺寸: 6英寸
4. 基片旋转, 加热温度：750℃
5. 膜生长控制模式: 镀率 / 厚度 / 时间 控制模式

 

超高真空系统配置:

上海伯东销售维修 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 系列凭借紧凑结构和卓越性能, 适用于高真空和超高真空应用.HiPace 涡轮分子泵采用混合或磁悬浮轴承系统, 确保低噪音和低振动运行. 此外,  涡轮分子泵 HiPace 还提供特殊型号, 包括针对氢气等轻质气体压缩的版本, 以及配备耐腐蚀涂层的型号. 这些丰富的专用版本选择, 使 Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 为涂层, 半导体制造和分析应用提供更优的解决方案.

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Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 80 应用于脉冲激光沉积系统 PLD