涡轮分子泵脉冲激光沉积系统 PLD 抽真空
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涡轮分子泵脉冲激光沉积系统 PLD 抽真空

上海伯东德国普发 Pfeiffer  涡轮分子泵组脉冲激光沉积系统应用
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition, PLD),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成,整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质,对环境的清洁度要求较高,必须配备无油干泵和分子泵抽真空。由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 伯东公司销售维修的 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小,清洁无油(前级泵配备干泵)、抽速快、极限真空度高达10-11mbar等优点一经上市好评如潮。

客户案例一:江苏某大学电信系 脉冲激光沉积系统
1.系统功能:主要用于Mn氧化物等复杂材料膜。
2.涡轮分子泵真空度要求: 真空度< 1x10-6pa
3.样品尺寸:6英寸
4.基片旋转,加热温度:750℃
5.膜生长控制模式:镀率/厚度/时间 控制模式
脉冲激光沉积系统 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵 Pfeiffer Hipace 400
2.分子泵 Pfeiffer Hipace 80
3.干泵 Pfeiffer MVP 040

Pfeiffer 涡轮分子泵
Pfeiffer 涡轮分子泵
客户案例二:南京某大学物理学院
1.系统功能:主要用于Mn氧化物膜,陶瓷氧化膜或金属膜的制备
2.真空度要求: 真空度< 1x10-8 mbar
3.样品尺寸:大约1cm2
4.基板加热温度:700至1000度
PLD系统 Pfeiffer 分子泵配置:
1.pfeiffer 普发经济型分子泵组 HiCube 80 Eco
2.Pfeiffer 普发涡轮分子泵 HiPace 700
Pfeiffer 普发涡轮分子泵组应用于脉冲激光沉积系统
客户案例三:上海某研究所  脉冲激光沉积系统基本规格:
1.系统功能:主要用于制备有机自旋阀器件,还可用于制备有机发光二极管、太阳能电池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.样品尺寸:直径2’
4.基板加热温度:1000度
5.镀膜方式:Effusion Cell/Plasma Cell
6.膜生长控制模式:镀率/厚度/时间 控制模式
该PLD系统 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵组 pfeiffer HiCube 80*7
2.涡轮分子泵 pfeiffer Hipace 300*2
Pfeiffer 普发涡轮分子泵组应用于脉冲激光沉积系统
真空磁控溅射镀膜机广泛应用于家电电器、钟表、灯具、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表、塑料、玻璃、陶瓷、磁砖等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。

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