KRI 线性霍尔离子源 eH Linear
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KRI 线性霍尔离子源 eH Linear


KRI Ion Source eHL 线性离子源

KRI Ion Source eHL 线性离子源使用 eH 200 或 eH 400 做为模组,能应用于宽范围的衬底,离子源长度高达 1 米,通过严格调整模组间的距离可以实现最佳的均匀性和离子流。由于模组是平行放置,大大简化了气体、功率和电子三者的分布。KRI eHL 线性产品使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化,一个低成本、高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层、in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统。

KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数:

型号

eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5

供电

DC magnetic confinement

  - 电压

40-200V VDC

  - 阳极结构

模块化

电源控制

eHL-30010A

配置

-

  - 阴极中和器

Filamentless

  - 离子束发散角度

> 45° (hwhm)

  - 阳极

标准或 Grooved

  - 底座

移动或快接法兰

  - 高度

10 cm

宽度

10 cm

  - 长度

~ 100cm

  -工艺气体

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others

 

 

 

Model

eHL 200-3

eHL 200-5

Height (nominal)

2.9” (7.4cm)

2.9” (7.4cm)

Width (nominal)

3.3” (8.4cm)

3.3” (8.4cm)

Length (nominal)

Determined by number of modules & application

Determined by number of modules & application

Cathode/Neutralizer

Yes

Yes

Anode module

Yes

Yes

Filamentless

Yes

Yes

Orientation

Vertical / Horizontal

Vertical / Horizontal

Process gases

Inert, reactive, & organic

Inert, reactive, & organic

Power controller

eH Plasma Power Pack

eH Plasma Power Pack

 

 

 

 

 

 

 

KRI Ion Source

 

 

 

 

 

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