涡轮分子磁控溅射抽真空
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涡轮分子磁控溅射抽真空

上海伯东代理德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700 成功应用于宁波某研究所磁控溅射(Megnetron Sputtering)系统.宁波某研究所磁控溅射(Megnetron Sputtering)系统用于光刻胶片上溅金属铬,铜,钛.其中材料生长腔工作真空度要求 < E-7 hPa,能做到4英寸片,3靶位,可实现编程镀膜.材料生长腔对涡轮分子泵的要求较高,老师在考量了德国普发 Pfeiffer Hipace 700 涡轮分子泵和爱德华 Edwards STP603 分子泵后,因为对分子泵的压缩比要求较高,最终选择了德国普发 Pfeiffer 分子泵.
 Pfeiffer 涡轮分子泵
-------宁波某研究所磁控溅射系统加装 Pfeiffer 涡轮分子泵-----

德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700 主要优点:
1.高压缩比 >1x1011
2.使用寿命长
3.涡轮分子泵真空度高且稳定 < E-7 hPa
4.大抽速 (N2) 685 l/s
5.与爱德华 Edwards STP603 相比,更大压缩比,真空度高且更稳定
值得一提的是,德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵广泛应用于国际知名的磁控溅射厂商,如美国 SVTA,芬兰 DCA,北京汇德信等.
Hipace 700

宁波某研究所磁控溅射(Megnetron Sputtering)系统,同时使用上海伯东德国普发 Pfeiffer 真空规 PKR 251 测量腔体真空度,美国 HVA6'S 真空阀门和德国普发 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM 340 检漏腔体.

上海伯东德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 系列产品抽速范围 10 l/s 至 2300 l/s,转子速率可达90000rpm。更有涡轮分子泵组 Hicube 系列和全磁浮涡轮分子泵 ATH 系列供选择已满足不同应用。Pfeiffer 涡轮分子泵更获得欧洲工业设计最高奖“红点奖”.

 

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