KRI 考夫曼离子源 离子枪光学真空镀膜机加装应用报告
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KRI 考夫曼离子源 离子枪光学真空镀膜机加装应用报告

光学镀膜(optics coating),在现代生产被广泛应用, 玻璃镀膜、镜片镀膜、显微镜镜片镀膜、装饰灯罩镀膜都是必不可少的生产工艺, 但是在真空镀膜中会出现膜层不均匀, 或是产品膜层脱落等现象。所以针对此类问题, 美国考夫曼公司KRI(Kaufman & Robinson, Inc)研发了Ion Source 离子源,从而解决了此类技术问题。伯东公司为美国考夫曼 KRI  离子源 中国地区总代理并负责其产品的销售及相关技术支持。
离子源
KRI离子源 离子枪在光学镀膜中主要起到了预清洁及辅助镀膜的作用,
伯东公司客户案例:厦门某光学镀膜企业,该企业使用日本Shincron真空镀膜机, 如下图所示:
离子源
加装KRI 离子源 离子枪起到预清洁作用,由于膜层表面很光滑,在镀膜时会产生膜层脱落现象,预清洁就是将膜层表面用大的离子如Ar打击表面,使得制程物能有效的吸附在表面上。
离子源
使用专业测膜记号笔,可以明显看出加装KRI 离子源 离子枪前后有很大的不同,当然在镀膜中希望的效果肯定是加装后的。
由于客户腔体比较大,大约2 m3左右,所以我们使用的型号是EH 4200,功率比较大的 KRI 离子源。在预清洁后还会开启进行辅助镀膜,具体效果需要在显微镜下观测,膜层厚度均匀性及附着牢固度都明显提高。
离子源

                                                                     工作示意图如上,KRI离子枪覆盖面

KRI 离子源广泛应用在 镀膜 、半导体、显示屏,科研等领域

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