离子蚀刻机 20 IBE-C
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离子蚀刻机 20 IBE-C

离子蚀刻机 20IBE-C
上海伯东日本原装进口适合中等规模量产使用的离子刻蚀机, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却

离子蚀刻机φ4 inch X 6片

基板尺寸

< φ3 inch X 8片
< φ4 inch X 6片
< φ8 inch X 1片

NS 离子刻蚀机 可选

样品台

样品台可选直接冷却 / 间接冷却0-90度旋转

离子源

20cm 考夫曼离子源

均匀性

±10% for 8”Ф

硅片刻蚀率

20 nm/min

温度

<100


NS 离子蚀刻机 20IBE-C 组成
NS 离子蚀刻机

离子束刻蚀机 IBE 特性:
1. 干法刻蚀, 物理蚀刻, 纳米级别的刻蚀精度
2. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状
3. 基板直接加装在直接冷却装置上,可以在低温环境下蚀刻.
4. 配置公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面. 刻蚀均匀性 ≤±5%
5. 几乎满足所有材料的刻蚀, IBE 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
6. 配置德国 Pfeiffer 分子泵旋片泵
7. 刻蚀机设计使用自动化的操作流程, 非常友好的使用生产过程

离子刻蚀机

离子蚀刻机

离子刻蚀机

自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套离子刻蚀机. 刻蚀机配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵. 伯东公司超过 50年的离子束刻蚀市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术! 上海伯东也是美国 KRi 离子源中国总代理, KRi 离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺.

若您需要进一步的了解离子束刻蚀机 IBE 详细信息, 请参考以下联络方式
上海伯东: 叶小姐                                   台湾伯东: 王小姐
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