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HVA 高真空闸阀应用于 E-Beam 镀膜机
E-Beam 电子束蒸发镀膜机用于在半导体, 光学, 超导材料等行业的研究与生产, 比如基片蒸发沉积金属, 导电薄膜, 半导体薄膜, 铁电薄膜, 光学薄膜和介质材料.
E-Beam 镀膜机设备组成: 系统主要由蒸发室, 电子枪, 进样室 (可选) , 旋转基片加热台, 工作气路, 抽气系统, 真空测量, 电控系统及安装机台等部分组成.
基片在做实验前一般需要做镀前预处理, 镀前预处理的目的是为了得到干净新鲜的金属表面, 为最后获得高质量镀层作准备, 要进行脱脂, 去锈蚀, 去灰尘等工作, 也有客户在 LOADLOCK 腔进行射频反应清洗, 通过使用上海伯东 KRI 离子源将基片的表层打掉, 得到更光滑和均匀的表面.
HVA 高真空闸阀应用
科研用镀膜机的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求达到 5*10-7mbar或 5*10-8mbar, 通过使用高真空阀门对 LOADLOCK 与主腔间进行真空隔离, 一方面不会污染基片, 另一方面也使主腔更好的维持真空, 对于多腔室联用的系统, 同腔室的隔离更为关键, 而且要保证阀门的足够密封, 稳定可靠才行. 上海伯东是美国 HVA 真空阀门中国总代理.
上图为美国 HVA 真空闸阀应用于某知名品牌 Sputtering + E-Beam PVD 联用系统, 阀门安装在分子泵口便于泵的检修,同时外系统停机时不破坏系统真空, 只要对泵内部进行破真空即可.
上海伯东美国 HVA 高真空闸阀 11000 系列产品
尺寸范围: 0.625”-24”ID ( DN 16mm-DN 600mm)
接口类型: CF(英制) / ANSI / KF / ISO-F / CF(公制 )/ JIS / ISO-K多种接口可选
对于气动规格, 电磁阀可选: 24VDC, 120VAC, 220VAC, 24VAC
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