pfeiffer 氦质谱检漏仪

电子束蒸发系统为一种物理气相沉积 PVD 技术, 其中电子束是由钨丝所产生的, 并受到电场和磁场的驱动而朝向蒸发材料, 并将其材料由固态转化为气态以沉积在基板表面上. 且该过程需在高真空环境中, 以通过自由路径的方式在基板表面上形成薄膜.

电子束蒸发比热蒸发更具有优势. 它能够在非常高的温度下熔化材料, 如钨, 石墨...等等. 结合石英震荡片的反馈信号, 可轻松控制蒸发速率, 以调节电子束电流并蒸发更多材料而不会破坏真空. 因此, 电子束蒸发用于薄膜制程领域, 包括半导体, 光学, 太阳能电池板, 玻璃和建筑玻璃, 因此它们具有所需的导电, 反射, 透射和电子等特性.

上海伯东代理进口电子束蒸发镀膜设备 E-Beam Deposition Evaporation, 薄膜厚度和均匀度±3％, 可针对量产使用单一坩埚也可以有多个坩埚来达到产品多层膜结构, 电子束蒸镀设备可以结合美国 KRi 离子源进行离子辅助沉积或者预清洁等功能.