Hakuto (NS) 离子蚀刻机
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Hakuto (NS) 离子蚀刻机

Hakuto (NS) 离子蚀刻
上海伯东日本原装进口 NS 离子蚀刻机包含小型离子蚀刻用于研究分析和大型离子蚀刻系统用于生产制造.

Hakuto NS 日本原装设计制造离子刻蚀机, 提供微米级刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料,黄金 AU, 铂 PT, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供最优蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套离子蚀刻机. NS 蚀刻机可配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRI 考夫曼离子源!

伯东离子蚀刻机特性:
1. 工作台和晶圆支架采用行星式运动, 称为” Dry Chuck Planet”, 具有优异的蚀刻均匀性,还可以手动或电动控制离子束入射角度.
2. 直接冷却/间接冷却级/气体冷却级
3. 灵活性: 接受定制, 在系统的设计中, 尽量响应客户的具体要求

Hakuto (NS) 离子蚀刻机技术规格:

型号

NS 7.5IBE

NS 10IBE

NS 20IBE-C

NS 20IBE-J

适用范围

适用于科研院所,实验室研究

适合小规模量产使用和实验室研究

适合中等规模量产使用的离子刻蚀机

适合大规模量产使用的离子刻蚀机

基片尺寸

Φ4 X 1片或
Φ6 X 1片

φ8 X 1片

φ3 inch X 8片
φ4 inch X 6片
φ8 inch X 1片

Φ4 inch X 12片
φ5 inch X 10片
φ6 inch X 8片

离子源

8cm 或 10cm
考夫曼离子源

10cm NS离子源

20cm 考夫曼离子源

20cm 考夫曼离子源


离子蚀刻系统主要应用
薄膜磁头 Thin film Magnetic Head
自旋电子学 Spintronics
MR Sencer
微电子机械系统 MEMS Micro-electromechanical Systems
射频设备 RF Devices
光学组件 Optical Component
超导电性 Super Conductivity

NS 离子刻蚀机 20IBE-J 视频

离子刻蚀机 3-4inch 20IBE 视频

NS 离子蚀刻机应用
离子蚀刻机应用

Hakuto NS 日本原装设计制造
离子刻蚀机, 提供微米级刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对黄金 AU, 铂 PT, 合金等金属及半导体材料也能提供最优蚀刻. 适用于 MR 薄膜磁头, 自旋电子学, 应力传感器, 射频滤波器, 超导体, 复合半导体材料的刻蚀. NS 蚀刻机可配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRI 考夫曼离子源!

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